近日，我校前沿院材料原子·分子科學(xué)研究所許并社教授團(tuán)隊(duì)韓斌副教授在材料領(lǐng)域國(guó)際頂級(jí)期刊《先進(jìn)功能材料》（Advanced Functional Materials，影響因子19.924）發(fā)表題為“Transparent and Reusable Nanostencil Lithography for Organic-Inorganic Hybrid Perovskite Nanodevices”（透明可重復(fù)使用納米掩膜光刻技術(shù)用于有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化鈣鈦礦納米器件的制備）的高水平論文。韓斌副教授為該論文的第一作者兼通訊作者，陜西科技大學(xué)為第一通訊單位，香港城市大學(xué)為共同通訊單位。該論文的發(fā)表標(biāo)志著我校在微納器件研究方面的重大突破，極大地提高了我校在半導(dǎo)體材料及器件領(lǐng)域的國(guó)際影響力。
透明納米掩膜光刻技術(shù)流程示意圖及器件實(shí)例
有機(jī)-無(wú)機(jī)雜化鈣鈦礦因其卓越的光學(xué)特性而備受關(guān)注，可用于開(kāi)發(fā)新型光電器件。然而，用于制備雜化鈣鈦礦器件的光刻技術(shù)仍面臨巨大的挑戰(zhàn)。這主要是因?yàn)殡s化鈣鈦礦材料在丙酮、水等光刻溶劑中極易受到損壞，因此傳統(tǒng)光刻技術(shù)無(wú)法與雜化鈣鈦礦材料兼容。韓斌副教授帶領(lǐng)研究生劉博、王光輝、邱琪等人經(jīng)過(guò)三年的努力，攻克了雜化鈣鈦礦納米器件制造的難題，開(kāi)發(fā)了一種與雜化鈣鈦礦完美兼容的新型聚焦離子束（FIB）輔助透明納米掩膜光刻技術(shù)。該技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)100納米的超高光刻分辨率，并且可以實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)的掩模板對(duì)準(zhǔn)。此外，該掩膜版可以重復(fù)使用十多次，極大地降低了器件制造成本。該技術(shù)的開(kāi)發(fā)將有助于雜化鈣鈦礦新型器件的開(kāi)發(fā)以及器件的微型化和集成化。
新聞小貼士：
韓斌博士2017年畢業(yè)于日本東北大學(xué)金屬材料研究所，2017-2019年在香港城市大學(xué)從事博士后工作。2019年以陜西科技大學(xué)“青年拔尖人才”引進(jìn)我校，加盟許并社教授團(tuán)隊(duì)。韓斌博士主要依托陜西科技大學(xué)的微納加工平臺(tái)-聚焦離子束（JEOL JIB-4700F），開(kāi)展新型半導(dǎo)體材料及其微納器件的研究。
論文詳細(xì)信息：Bin Han, Bo Liu, Guanghui Wang, Qi Qiu, Zhe Wang, Yuying Xi, Yanxia Cui, Shufang Ma, Bingshe Xu, and Hsien-Yi Hsu,“Transparent and Reusable Nanostencil Lithography for Organic-Inorganic Hybrid Perovskite Nanodevices”Advanced Functional Materials,2023, 2300570. (DOI:10.1002/adfm.202300570)
（核稿：強(qiáng)濤濤 編輯：劉倩）
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